Die feuchtigkeitsspendende Maske Chok-Chok Hyaluronic Acid & Algae von Ondo Beauty 36.5 besteht aus einem biologisch abbaubaren Stoff und enthält 88 % Hamamelis, einen Komplex aus 8 Meerespflanzen und Niacinamid, die dabei helfen, die Haut aufzupolstern und tief mit Feuchtigkeit zu versorgen.
Es ist perfekt für Menschen mit dehydrierter Haut, die die Leuchtkraft hervorheben und den koreanischen Glashauteffekt erzielen möchten.
Die mit Hyaluronsäure und Algen stimulierende Maske enthält 88 % Hamamelis, den Hauptwirkstoff zur Beruhigung der Haut, Reinigung und Minimierung vergrößerter Poren.
Der Meerespflanzenkomplex mit 7 Arten von Algenextrakten und Marine Narcissus (Meerespflanze) reichert die Haut mit essentiellen Nährstoffen an.
Niacinamid, gewonnen aus Vitamin B3, beruhigt, hellt die Haut auf und verhindert das Auftreten dunkler Flecken.
Aquaxyl optimiert den Feuchtigkeitsfluss der Haut, kontrolliert die Durchblutung und die Wasserreserven und bietet einen „Schutzschild gegen Austrocknung“ mit sichtbaren Effekten in 8 Stunden.
Vegan.
Cruelty free.
Verwenden Sie die Hyaluronsäure- und Algenmaske, um die Haut aufzupolstern und tief mit Feuchtigkeit zu versorgen.
Maritimum Extract, Sodium Hyaluronate, Xylitol, Xylitylglucoside, Anhydroxylitol, Allantoin, Magnesium PCA, Zinc PCA, Sodium PCA, Tocopherol, Citrus Aurantium Bergamia (Bergamot) Fruit Oil, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Leaf Oil, Betaine, Aqua (Water/Eau), Butylene Glycol, Caprylyl Glycol, Pentylene Glycol, Polyglyceryl-10 Laurate, Sodium Phytate, Xanthan Gum, Ethylhexylglycerin, Carbomer, Tromethamine, Limonene*.*Presente naturalmente en los aceites esenciales.
